INDUSTRY半導體YEAR2023LOCATION台中后里NO.02
地區台中后里台中后里
製程切割開槽半導體半導體集塵
效果粉塵濃度降低濾材壽命延長維護週期延長

本案為兩昌集塵於台中后里完成的晶圓切割集塵工程。切割與雷射開槽產生大量細微矽粉與膠帶碎屑,於機台內部建立負壓捕集,避免粉塵外逸至潔淨走道並延長設備保養週期。

BACKGROUND

產業背景

晶圓切割是封裝前的關鍵工序,雷射開槽則常用於低介電材料晶圓,先在切割道上開出淺槽,再以刀片完成切割。兩者都在潔淨環境中進行,且機台內部含有精密滑軌、光學鏡片與影像辨識系統,對粉塵與水霧非常敏感。過去許多廠房只針對切割水氣做排氣,忽略了細微矽粉會隨氣流逸出;一旦粉塵附著在鏡片或滑軌上,就會造成定位偏差與切割品質不穩,甚至需要停機清潔,直接影響產能與良率。

CHALLENGE

現場問題

切割水與粉塵混合後附著於機台滑軌與鏡片,造成定位精度漂移;機台既有抽氣僅針對水氣,細粉仍會隨開門動作逸散到潔淨走道。

SPECIFICATION

系統規格

製程
晶圓切割・雷射開槽
污染物
矽粉・膠帶碎屑・水霧
集塵型式
機內負壓+氣液分離
主要設備
小型濾筒集塵機 ×4

ANALYSIS

粉塵與污染特性分析

晶圓切割與雷射開槽的污染物以細微矽粉為主,並混有切割膠帶的有機碎屑;切割時大量使用切割水,使排氣同時帶有水霧。矽粉潮濕後附著力極強,容易黏在滑軌、鏡片與機台內壁上,乾燥後又會再次飛散。雷射開槽區另有微量的燒蝕煙氣,粒徑更細。這種「細粉+水霧+碎屑」的組合,決定了系統必須先做氣液分離,再以乾式濾材收集細粉,才能兼顧捕集效率與濾材壽命。

DECISION

方案比較與選型

團隊評估時比較了「整區排氣」與「機內負壓」兩種做法。整區排氣施工較單純,但需要非常大的風量才能把機台開門時的逸散氣流帶走,且無法保護機台內部零件。機內負壓則是直接在切割室與開槽區建立穩定負壓,讓氣流永遠由外往內,開門時粉塵也不會逆流。為了處理水霧,系統前段加入氣液分離,再以小型濾筒集塵機收集細粉。選擇四台小型機而非一台大型機,是因為各區機台運轉時段不同,分組後可依實際使用狀況啟停,也讓單台維修時不影響其他產線。

SOLUTION

設計邏輯

01

機內負壓設計

於切割室與開槽區建立穩定負壓,開門瞬間不逆流外逸。

02

氣水分流

先以氣液分離移除水霧,再進入乾式濾材,避免濾筒受潮黏堵。

03

支管風量平衡

多台機台以風量平衡閥調整,確保末端機台抽氣不衰減。

04

維護動線規劃

集塵機與集塵桶設置於維修通道,更換濾材不影響產線運轉。

SITE SURVEY

現場評估重點

晶圓切割與雷射開槽集塵的現場評估,重點在於確認每台切割機與雷射機的抽氣接口規格、設備原廠建議的排氣量,以及切割水與雷射煙塵是否共用排氣。雷射製程的煙塵粒徑極細,需確認既有濾材等級是否足夠。同時會盤點機台數量與未來擴機計畫,預留主管容量與集塵機擴充空間。評估時也會量測現有管路的實際風量,找出風量不平衡或末端不足的點位,作為設計改善的依據。

CONSTRUCTION

施工與試車

由於機台位於潔淨區,施工採分機台輪流停機的方式進行,每次只接駁一至兩台,其餘產線維持運轉。四台小型濾筒集塵機設置於維修通道,管路自機台後方引出,不佔用潔淨走道空間。完工後逐台量測機內負壓與開門瞬間的氣流方向,並於潔淨走道進行粒子計數,確認數值回到背景值後才交付使用。

RESULTS

改善成果

  • 潔淨走道粒子計數回到背景值,無粉塵外逸紀錄。
  • 機台滑軌與鏡片清潔週期由每週延長至每月。
  • 氣液分離設計使濾材更換頻率降低約 40%。
  • 多機併聯後末端抽氣量差異控制在 5% 以內。

EVALUATION

效益與驗收方式

效益評估採用前後對照方式:改善前後分別在潔淨走道量測粒子數,確認已回到背景值;同時記錄機台滑軌與鏡片的清潔頻率、濾材更換紀錄,以及各機台末端抽氣量。這些數據不只用於驗收,也成為日後維護的參考基準。當清潔週期或濾材更換頻率出現變化時,現場人員能及早察覺並調整,讓晶圓切割集塵系統長期維持在穩定狀態。

MAINTENANCE

後續維護建議

  1. 每週檢查氣液分離器排水是否順暢,避免積水回流進入濾筒。
  2. 每月確認各機台負壓表讀數,數值下降時檢查支管閥門與濾筒差壓。
  3. 更換濾筒時同步清潔機台內部抽氣口,避免殘留矽泥阻塞。

COMPLIANCE

安全與法規注意事項

雷射開槽產生的煙塵可能含有晶圓保護膠或金屬層氣化後的物質,集塵設備的濾材與管路需定期檢查,避免堆積物影響安全。切割水霧與雷射煙塵若混合,需注意管路排水與防腐蝕設計。設備與排氣需配合廠內職業安全衛生管理,維持作業區空氣品質;若排放至戶外,應依空氣污染防制相關規定確認是否需申請許可或定期檢測。

FAQ

常見問題

Q:晶圓切割集塵為什麼要做氣液分離?

切割過程大量使用切割水,排氣中的水霧若直接進入乾式濾筒,會讓矽粉在濾材表面結成泥狀,壓損快速升高。先以氣液分離把水霧移除,晶圓切割集塵系統的濾材壽命才能維持。

Q:多台切割機共用集塵系統會互相影響嗎?

若沒有做風量平衡,離集塵機較遠的機台抽氣會明顯變弱。本案在每台機台支管設置風量平衡閥,並於試車時逐台調整,讓各機台抽氣量差異控制在很小的範圍內。

APPLICATIONS

延伸應用

機內負壓加上氣液分離的做法,也適用於其他使用冷卻水的精密切割或研削設備,例如 LED 晶粒切割、陶瓷基板切割、玻璃切割與石英加工等。只要製程同時產生細粉與水霧,且設備內部有精密零件需要保護,都可以參考本案的設計方式,依機台配置調整罩型與風量。

若您的工廠也有切割開槽相關的粉塵、油霧或廢氣問題,歡迎與兩昌集塵聯繫。我們會依現場製程與產塵點評估,提供合適的晶圓切割集塵規劃建議。

NOTE

本案例為真實工程專案,文章由工程師結合 AI 協作撰寫並校對。

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